微型立式管式炉 TFV-1200- 50 -Ⅰ- 220是一款小型开启式立式管式炉，其炉管直径为φ30/50mm可选，适合于对样品在真空或气氛?；せ肪诚碌跎蘸痛慊?。如果选用不同的配件与装置搭配，其也可以当作一款流化床立式管式炉来使用，可专门针对粉末表面沉积的CVD实验，此时，在高纯石英炉管内部嵌有石英砂芯，其孔径在5-15um内。烧结的粉末放置在砂芯层上，气体从炉管下端法

1700单温区管式炉是一款小型高温管式炉，其加热元件采用1800级硅钼棒。升温和降温由30段程序进行控制，最高温度可以达到1700℃。此款高温炉可以广泛地用于材料的烧结或是退火（在真空或是惰性气体?；ぷ刺拢?。管式炉炉体表面温度≤60℃，炉膛采用高纯度氧化铝微晶纤维高温真空吸附成型。专为高等院校﹑科研院所的实验室及工矿企业在可控多种气氛及真空状态下对金属，非金属及其它化合物进行烧结﹑熔化

1500开启式单温区管式炉采用硅碳棒为加热元件，额定温度1400℃，最高温度可达1500℃。采用宇电AI-3756P触摸屏控温仪和S型热电偶，可编程30段程序控温，控温精度±1℃。设备中包含一套316L不锈钢快开法兰，双环密封技术，可应用于真空或气氛下烧结、基片镀膜等实验环境。内置双层风冷结构，表面温度≤60℃。法兰两端加配支架，减轻炉管负重，保证炉管使用寿命。

1500单温区管式炉采用硅碳棒为加热元件，额定温度1400℃，最高温度可达1450℃。采用宇电控温仪表和S型热电偶，可编程30段程序控温，控温精度±1℃。设备中包含一套316L不锈钢快开法兰，双环密封技术，可应用于CVD实验、荧光粉制备、真空或气氛下材料烧结、基片镀膜等实验环境。

TFH微型助力管式炉炉体与智能控温系统一体式设计。包含了30段升温和降温曲线设置，控温精度达±1℃。炉膛采用氧化铝多晶纤维材料保温效果好，双层壳体设计，配风冷系统，表面温度低于60℃，可在多种气氛下工作。广泛应用于高等院校、科研院所及工矿企业的气氛烧结、还原、真空退火等科研及生产工作。